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🏷️ 核心关键词
高端半导体设备 #薄膜沉积 #先进封装3D-IC
💬企业简介
中国高端半导体装备领域的领军企业，专注于芯片制造薄膜沉积与3D-IC先进封装设备的研发与制造。
🏢 企业概况
拓荆科技股份有限公司成立于 2010 年 4 月，是国家级高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。 公司总部位于 沈阳市浑南区，拥有现代化办公楼及高等级洁净厂房，总建筑面积 约 40,000 平方米。
拓荆已在 北京、上海、海宁、青岛、沈阳 以及 美国、BVI、新加坡、日本 设立子公司，构建了全球化的研发、生产与服务体系。 公司于 2022 年 4 月在上交所科创板成功上市（股票代码：688072）。
⚙️ 核心业务与产品
拓荆聚焦半导体制造装备领域，主要产品包括：
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薄膜沉积设备系列
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PECVD（等离子体增强化学气相沉积）
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ALD（原子层沉积）
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SACVD（次常压化学气相沉积）
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HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）
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Flowable CVD（超高深宽比沟槽填充设备）
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先进封装设备系列
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W2W / D2W Hybrid Bonding（三维集成混合键合设备）
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相关量测与检测设备
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这些产品广泛应用于：
集成电路晶圆制造、先进存储、先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED 与 Micro-OLED 显示等高端技术领域。
公司产品已进入 北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等 20 多个地区的 70 余条生产线，并设有技术服务中心，提供 7×24 小时全球技术支持。
💡 技术与优势
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拥有完全自主知识产权的核心技术群，技术指标达到国际先进水平。
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通过 ISO 9001、ISO 14001、ISO 45001 管理体系认证。
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拥有一支国际化高科技研发团队，具备雄厚的技术积累与产业化经验。
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构建了完善的知识产权体系，获评 “国家知识产权示范企业（2022-2025）”。
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多次被中国半导体行业协会授予 “中国半导体设备五强企业” 称号。
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拥有稳定的全球供应链体系，与多家国际半导体设备核心供应商建立合作关系。
🤝 产教融合与合作资源
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与 东北大学、大连理工大学 等高校合作开展半导体装备研究与人才培养。
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可作为 半导体装备研发与制造实训基地，为高校学生提供科研、实习与创新项目支持。
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支持高校共建实验平台、联合实验室及成果转化机制。
🏅 企业荣誉
🏆 中国半导体设备五强企业（多次）
🏆 国家知识产权示范企业（2022-2025）
🏆 辽宁省科学技术进步一等奖
🏆 国家级企业技术中心
🏆 全国五一劳动奖状
📞 联系方式
📍 总部地址：中国辽宁省沈阳市浑南区水家900号
🌐 官网：http://www.piotech.cn/index.php/Lx/lx
📞 电话：+86 024 - 24188000